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原位激光過程氣體分析儀（單端式）
GasTDL-3100
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術（TDLAS）的高性能光學分析儀器，無需采樣預處理系統，能夠在高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環境下進行原位氣體濃度測量。
產品特性
    • 采用TDLAS技術，被測氣體不受背景氣體交叉干擾
    • 單端開孔，無需對光；直插式設計，極大簡化了安裝調試
    • 無需采樣預處理系統，實時快速測量
    • 內置標準氣體參比模塊，動態補償，實時鎖住吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響
    • 可用于惡劣工業環境中，抗化學腐蝕、高粉塵、高水分
技術參數
性能參數
測量組分 O2、CO2、CO、CH4（可定制）
測量原理 TDLAS
測量范圍 0~2%VOL（可定制）
精度 ≤±1%F.S.
重復性 ≤±1%
分辨率 0.01%VOL
響應時間 T90≤4s
工作參數
環境溫度 -20~60℃
工作電源 24V DC
吹掃氣源 0.3~0.8MPa工業氮氣
接口信號
通訊接口 RS-485
輸出模式 4~20mA
*具體參數請以規格書為準，如需獲取更多技術信息，請聯系：027-81628829或info@gasanalyzer.com.cn
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