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原位激光過程氣體分析儀(對射式)
GasTDL-3100
GasTDL-3100原位激光過程氣體分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業(yè)過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。
產(chǎn)品特性
    • 采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
    • 原位安裝,無需采樣預處理系統(tǒng)
    • 響應快速(T90≤1s),可實時反應氣體濃度
    • 實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高
    • 在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應性
    • 隔爆防爆設計,安全系數(shù)高
    • 構造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護

技術參數(shù)
性能參數(shù)
測量組分 H2S、O2、CO、CO2、CH4*
測量原理 TDLAS
測試范圍

H2S:0 ~ 100ppm,0 ~ 5000ppm

O2:(0 5)%VOL (可定制100%)

CO:(0 100)%VOL
CO2:(0 100)%VOL
CH4:(0 20)%VOL
精度 ≤±1%F.S.
重復性 ≤±1%
量程漂移 ≤±1%F.S.
分辨率 0.01%VOL
響應時間 T90≤1s
工作參數(shù)
防爆等級 Ex d ⅡC T6 Gb
安裝方式 原位安裝
環(huán)境溫度 (-20~ +60)℃
工作電源 24V DC,24W
吹掃氣體 (0.3~ 0.8)MPa工業(yè)氮氣
接口信號
通訊 RS485、RS232
輸出模式 2路4-20mA輸出
3路繼電器輸出

*注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度。

*具體參數(shù)請以規(guī)格書為準,如需獲取更多技術信息,請聯(lián)系:027-81628829或info@gasanalyzer.com.cn
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